來自Meiden Nanoprocess Innovation Corporation的報導指出，在過去的貿易展覽會上，他們展示了一款高濃度純臭氧發生器，稱為Pure Ozone Generator & Surface Modification Coating System。該公司表示，他們在臭氧研發領域已有約20年的經驗，自3年前成立Meiden Nanoprocess Innovation後，致力於純臭氧的研發與應用。
該高濃度純臭氧發生器的應用主要有兩個方面。首先，通過混合乙烯氣體和純臭氧，可以輕鬆生產羥基自由基。這些自由基可以用於表面處理，主要應用於改性、淹沒、鍵合預處理等快速、無損、穩定的表面處理。主要應用領域包括半導體表面處理、鍵合技術、玻璃等基材的處理。
第二個應用領域是ALD(原子層沉積)沉積。純臭氧的使用有兩個優勢，首先是低溫度，其次是可以應用於廣泛的領域。在薄膜沉積方面，他們的臭氧技術可以實現在室溫至150°C範圍內的低溫度沉積。其次是微通道，他們的純臭氧氣體可以深入到溝渠中。這種深入能夠實現高度的膜生長與高度的穿透度。主要應用領域包括半導體和低耐熱基材，如薄膜和玻璃。
Meiden Nanoprocess Innovation表示，他們可以利用純臭氧進行表面處理和薄膜沉積，如有興趣請與他們聯繫。Generated by OpenAI
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